多晶硅生產(chǎn)的90%使用改良西門子法， 三氯硅烷是多晶硅生產(chǎn)的主要原料，但根據(jù)精餾純化的方法，獲得高純度的三氯硅烷是多晶硅生產(chǎn)的關(guān)鍵，整個(gè)行業(yè)面臨著下降成本和保護(hù)環(huán)境的雙重壓力，如何實(shí)現(xiàn)成本下降和環(huán)境污染成為公司發(fā)展的根本。

? ? ? 硅粉中的金屬氯化物雜質(zhì)比較高，另外在氯硅烷的制備過程當(dāng)中，多晶硅的純度直接影響多晶硅產(chǎn)品的質(zhì)量。 蒸餾塔清洗由于三氯硅烷的氫化原料使用硅粉，由于溫度較高，會(huì)產(chǎn)生一部分高氯硅烷，那么，下面一起了解下蒸餾塔清洗的方法與流程吧!

　　蒸餾塔清洗過程是一個(gè)復(fù)雜的物理過程，溶解在氯硅烷中的雜質(zhì)被解析為高粘度的固體物質(zhì)，精餾塔在運(yùn)行中塔釜中的材料不斷濃縮，氯硅烷和其他金屬氯化物濃度逐漸增加，打開再沸器進(jìn)行清洗，再沸器的清洗至今沒有好的處理方法。 目前常用的處理方法是精餾塔停車后，吸附在再沸器的管壁上，成為再沸器的為了保證塔的正常運(yùn)行，需要停放精餾塔，氮?dú)庵脫Q合格，打開再沸器的瓶蓋，用水清洗。 堵塞嚴(yán)重的情況下，使用空氣鉆頭疏通管束。 使用空氣鉆時(shí)，可能會(huì)損傷管束，縮短再沸器的壽命。 清洗過程當(dāng)中會(huì)產(chǎn)生大量的廢水和固體廢物，所以環(huán)境會(huì)產(chǎn)生很大的固體廢物污染和廢氣污染，由于氯硅烷遇到空氣和水分發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生煙霧，而且雜質(zhì)會(huì)發(fā)生反應(yīng)，使得再沸器的管壁附著力變強(qiáng)，清洗一般來說，再沸器的難度會(huì)變大。

　　蒸餾塔清洗技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

　　蒸餾塔清洗要解決的技術(shù)問題是提供一種快速、環(huán)保的精餾塔重沸器的清洗方法。 為了解決上述課題，本發(fā)明精餾塔再沸器的清洗方法包括以下工序。

　　再沸器堵塞后，精餾塔汽水負(fù)荷下降，降至設(shè)計(jì)汽水負(fù)荷時(shí)，將上述精餾塔停車;

　　將塔內(nèi)含三氯氫硅、四氯化硅和金屬氯化物的混合物在85下通過塔釜開采管線全部排出原料罐，重新運(yùn)行時(shí)繼續(xù)使用;

　　塔釜液位下降到5%后停止開采，停止補(bǔ)給新鮮的液相四氯化硅，開始向再沸器流通蒸汽，在對(duì)所述精餾塔的塔釜的四氯化硅進(jìn)行加熱升溫的同時(shí)，打開冷凝器，通過精餾塔進(jìn)料線向塔內(nèi)補(bǔ)充新鮮液相四氯化硅; 在塔釜液位上升到80%的時(shí)刻，對(duì)所述精餾塔進(jìn)行全回流操作;

　　塔釜溫度為100~120，再次補(bǔ)充新液相四氯化硅。 循環(huán)時(shí)間為3小時(shí)，采樣分析表明四氯化硅中雜質(zhì)含量降至4%，第三次新液相四氯化硅補(bǔ)充4小時(shí)后，四氯化硅循環(huán)時(shí)間為2.5小時(shí)，采樣分析發(fā)現(xiàn)四氯化硅中雜質(zhì)含量上升2%，從排出口排出所有溶解在四氯化硅和四氯化硅中的金屬氯化物后，用氮?dú)馓畛? 如果上述精餾塔的壓力達(dá)到0.3MPa，從上述排出口釋放壓力，采樣分析表明塔釜中四氯化硅雜質(zhì)含量降至0.02%塔釜的溫度下降到80后，將塔釜和管線中的四氯化硅全部清除，將四氯化硅全部置換，就可以正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

　　蒸餾塔清洗將溶解在四氯化硅和四氯化硅中金屬氯化物全部從排出口6排出后，用氮?dú)獬鋲? 精餾塔3的壓力達(dá)到0.3MPa后，從排出口6排出壓力，清除塔釜及管線中的所有四氯化硅，全部置換四氯化硅即可正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

　　以上介紹的就是蒸餾塔清洗的方法與流程，如需了解更多，可隨時(shí)聯(lián)系我們!