華諾mask掩模版,聚酯薄膜微孔微矩陣光罩 MASK
500元2022-11-17 08:10:53
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北京華諾恒宇光能科技有限公司
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掩膜版
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0.01mm不銹鋼精密超微孔掩模板,金屬精密電極蒸鍍掩膜板,掩膜版電話,不銹鋼狹縫光罩 MASK
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| 加工周期 | 最快12小時(shí)出貨 | 掩膜板材質(zhì) | 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制 |
| 掩膜版別名 | 掩膜板、光罩、mask、FMM | 掩膜版加工精度 | 最小10um |
| 掩膜版尺寸 | 最大600*600mm | 掩膜版材質(zhì)厚度 | 最薄加工厚度0.03mm |
| 特色要求 | 需要和客服具體溝通 | ||
華諾mask掩模版,聚酯薄膜微孔微矩陣光罩 MASK
掩膜版切割主要應(yīng)用行業(yè)有LED芯片制造，觸摸屏，LCD，消費(fèi)類電子，半導(dǎo)體，MEMS，照明，等行業(yè)，以及科研、航天航空、電子、機(jī)械、光學(xué)、石油、化工、汽車、工藝品等行業(yè)。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。
激光加工掩膜板的原理
激光加工是利用光的能量經(jīng)過透鏡聚焦后在焦點(diǎn)上達(dá)到很高的能量密度，靠光熱效應(yīng)來加工的。 激光加工不需要工具、加工速度快、表面變形小，可加工各種材料。用激光束對(duì)材料進(jìn)行各種加工，如打孔、切割、劃片、焊接、熱處理等。 某些具有亞穩(wěn)態(tài)能級(jí)的物質(zhì)，在外來光子的激發(fā)下會(huì)吸收光能，使處于高能級(jí)原子的數(shù)目大于低能級(jí)原子的數(shù)目——粒子數(shù)反轉(zhuǎn)，若有一束光照射，光子的能量等于這兩個(gè)能相對(duì)應(yīng)的差，這時(shí)就會(huì)產(chǎn)生受激，輸出大量的光能。
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