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華諾mask掩膜板,304不銹鋼稀有金屬掩模板

500元2022-11-29 08:31:11
  • 北京華諾恒宇光能科技有限公司
  • 掩膜版
  • 聚酯薄膜方形陣列掩膜板,304不銹鋼金屬狹縫掩膜板,304不銹鋼微孔狹縫光罩 MASK,金屬微孔微矩陣掩膜板
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北京華諾恒宇光能科技有限公司

注冊(cè)時(shí)間:2022-09-27

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加工周期 最快12小時(shí)出貨 掩膜板材質(zhì) 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶(hù)要求定制
掩膜版別名 掩膜板、光罩、mask、FMM 掩膜版加工精度 最小10um
掩膜版尺寸 最大600*600mm 掩膜版材質(zhì)厚度 最薄加工厚度0.03mm
特色要求 需要和客服具體溝通  

華諾mask掩膜板,304不銹鋼稀有金屬掩模板

掩膜版激光加工產(chǎn)品特點(diǎn):激光加工線條均勻、刺、無(wú)缺口
產(chǎn)品價(jià)格:以材料材質(zhì)、厚度、精度要求、量產(chǎn)數(shù)量綜合核定
加工能力:可大批量生產(chǎn),每天生產(chǎn)高達(dá)1000平方米
樣品提供:付費(fèi)打樣,樣品3天內(nèi),快出樣,量大可申請(qǐng)免費(fèi)樣品
批量生產(chǎn)時(shí)間:5-10個(gè)工作日
產(chǎn)品檢測(cè)及:二次元、影像儀
安全,美觀,環(huán)保的捆包方式,不間斷發(fā)貨,如需快遞可在48小時(shí)內(nèi)到達(dá),于我司合作的快遞公司為國(guó)內(nèi)順豐快遞。


掩膜夾具極高的精密度,可達(dá)±0.05的精度,滿(mǎn)足不同產(chǎn)品的組裝要求,材料越薄,精度控制相對(duì)越高。我們可以加工薄0.02厚的掩膜版金屬材料,直至3以?xún)?nèi)厚,都可以實(shí)現(xiàn)批量化的生產(chǎn)加工,而且加工的質(zhì)量穩(wěn)定,批次清楚,品控體系嚴(yán)格。

掩膜版切割主要應(yīng)用行業(yè)有LED芯片制造,觸摸屏,LCD,消費(fèi)類(lèi)電子,半導(dǎo)體,MEMS,照明,等行業(yè),以及科研、航天航空、電子、機(jī)械、光學(xué)、石油、化工、汽車(chē)、工藝品等行業(yè)。

掩膜版的加工種類(lèi):
華諾激光長(zhǎng)期供應(yīng)高精度電極掩模板加工制作,不銹鋼掩膜板,精密金屬非金屬掩模板制作,非金屬掩膜板制作,微孔掩膜板制作,光刻直寫(xiě)掩膜板制作 金屬和非金屬掩膜板制作加工,掩膜板小孔可做到50微米,精度也可做到20微米,掩膜板刻線,小線寬可做到20微米,價(jià)格實(shí)惠,量大從優(yōu)。

如何才能保證激光精密切割加工金屬掩膜板的好品質(zhì)?
1. 客戶(hù)要找到一家資質(zhì)齊全的金屬掩膜板激光精密切割加工廠。只有資質(zhì)齊全的激光精密切割工廠,相應(yīng)的設(shè)備,包括激光精密切割設(shè)備,紅外、紫外、綠光、二氧化碳等激光設(shè)備,二次元影像儀設(shè)備,無(wú)塵潔凈室等,以及的操作人員都很重要。
2. 體系是否完備?不要認(rèn)為ISO9001和ISO14001是個(gè)擺設(shè),真正完全做到7S標(biāo)準(zhǔn)的工廠,永遠(yuǎn)都是規(guī)范整潔的工廠。就像客戶(hù)常和我們說(shuō)的:一個(gè)規(guī)范整潔的工廠,相信做的產(chǎn)品也不會(huì)差到哪里去。
3. 客戶(hù)服務(wù)是否完備?服務(wù)客戶(hù)就是幫助客戶(hù),服務(wù)客戶(hù)就是幫助客戶(hù)解決問(wèn)題。積極提供各種解決方案,業(yè)務(wù)人員主動(dòng)提出解決問(wèn)題的方案,是取得客戶(hù)信任的要件,不要一味的點(diǎn)頭,說(shuō)是。主動(dòng)發(fā)現(xiàn)問(wèn)題,預(yù)防問(wèn)題才是做好相關(guān)產(chǎn)品的為根本的要件!
4. 細(xì)節(jié)有無(wú)到位?細(xì)節(jié)決定成??!激光精密切割加工的產(chǎn)品我們要保證每個(gè)細(xì)節(jié),每個(gè)關(guān)鍵尺寸的準(zhǔn)確,檢測(cè)到位,保證符合客戶(hù)的工程圖紙的要求,不能馬虎了事。
5. 供應(yīng)商的穩(wěn)定性也是保證激光精密切割加工的品質(zhì)的重要一環(huán)。材料材質(zhì)穩(wěn)定有保證,是加工好產(chǎn)品的前提。華諾普銳斯的材料進(jìn)貨渠道都是正規(guī)大的鋼材壓延廠直供,材質(zhì)穩(wěn)定,環(huán)保達(dá)標(biāo),萬(wàn)不可為節(jié)省小成本,造成大失??!

光刻掩膜版(又稱(chēng)光罩,英文為Mask Reticle),簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得,常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備,如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。

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