制備多晶硅表面涂層：氫氧化鋯可用于制備多晶硅表面的涂層，提升多晶硅的耐腐蝕性和機(jī)械強(qiáng)度，有助于提高多晶硅在實(shí)際應(yīng)用中的穩(wěn)定性和使用壽命，例如在光伏組件中，可增強(qiáng)多晶硅電池片抵抗外界環(huán)境侵蝕的能力。
用于化學(xué)機(jī)械拋光：在多晶硅的加工過(guò)程中，需要進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）來(lái)獲得平整的表面。氫氧化鋯可以作為拋光漿料中的磨料成分之一。它與氧化鋁、二氧化硅等其他磨料配合使用，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)和機(jī)械研磨的共同作用，去除多晶硅表面的多余材料，實(shí)現(xiàn)表面平坦化。拋光過(guò)程中，氫氧化鋯可以提供合適的研磨能力，有助于提高拋光效率和表面質(zhì)量，使多晶硅表面的粗糙度降低，滿足后續(xù)工藝要求，例如在半導(dǎo)體制造中，為后續(xù)的光刻等工藝提供良好的表面基礎(chǔ)。
制備相關(guān)復(fù)合材料：通過(guò)復(fù)合技術(shù)，氫氧化鋯和多晶硅可以制成具有特殊性能的材料，用于特定的工業(yè)或科研用途。這種復(fù)合材料可能兼具多晶硅的電學(xué)性能和氫氧化鋯相關(guān)的特性，如耐高溫、耐腐蝕等，可應(yīng)用于一些對(duì)材料性能要求苛刻的場(chǎng)合，如高溫電子器件、特殊環(huán)境下的傳感器等。